- 大賽璐化妝品級HEC與其他水溶性高分子的比較

- 應用領域
護發(fā): 洗發(fā)水、調(diào)理劑、湯染發(fā)劑(粉狀、膏狀)
本品特點: 相比于其他天然增稠劑,HEC更便宜,品質(zhì)也很穩(wěn)定;
無酸臭味;
相比于競爭對手的HEC及其他水溶性聚合物,我們的HEC具有更好的分散能力,更高的透明度;
粘度的增加提高了涂敷舒適性和泡沫穩(wěn)定性;
滋潤頭發(fā),柔順光澤,發(fā)感有絲質(zhì)和潮濕紋理,易于打理;
粘度的穩(wěn)定性提高,適合燙染拉后的護發(fā)。
推薦型號: SE600、SE850
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口腔護理: 牙膏
本品特點: 相比于其他天然增稠劑,HEC更便宜,質(zhì)量也很穩(wěn)定;
有良好的觸變性和流變性;
優(yōu)良的耐鹽性能,優(yōu)異的耐酸性能;
讓牙膏有比較好的擠出性,在牙刷上有很好的成型;
牙膏從牙刷上拿開時,有不錯的分離感,并防止牙膏水分流失。
推薦型號: EE820、SE600
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護膚: 護膚乳液、滋潤乳、沐浴露、護手霜
本品特點: 提高乳液的穩(wěn)定性;
保濕,增加粘度,透明性好,獲得流暢的流動性;
提高耐堿性、耐化學性和耐腐性;
增加表面活性劑的粘度。
推薦型號: SE900
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面膜: 面膜
本品特點: 提高保濕,有更好的膚感和貼合感
推薦型號: SE900
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大賽璐HEC在電解銅箔領域的應用
-電解銅箔表面處理
HEC是一種非離子水狀膠體,作為一種保護性膠體(吸附、膜形成、適當?shù)谋砻婊顒?,使它成為銅箔電鍍中非常有用且通用的添加劑。羥基離子釋放電荷導致氧離子集結(jié),氧離子和硫酸根離子重新結(jié)合,提高了硫酸濃度。其作用主要是提高電化學極化,陽礙銅離子的還原,防止銅品粒的過分長大;適量HEC有利于銅箔電解時的離子吸附,膜的形成和抑制晶粒粗大,幫助超薄高抗拉銅箔的加工。
本品特點: 制作電解銅箔時,通過在電解液中添加HEC,可以使銅箔表面粗糙度適當(見下圖)
推薦型號: SP400 SE400

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大賽璐HEC在硅晶圓拋光液領域的應用
-半導體晶圓拋光液

對吸附了拋光液的拋光頭一邊加壓一邊使之旋轉(zhuǎn),連續(xù)供應拋光液到拋光片的同時使研磨盤旋轉(zhuǎn)從而進行研磨。
本品特點: 1.提高硅晶圓表面的潤濕性,在硅晶圓表面形成均勻的拋光液薄膜
2.拋光液中磨料顆粒的緩沖效果,防止磨料顆粒直接接觸晶圓時造成損傷,使精密研磨成為可能。
推薦型號: SP200 SP400 SE400
- 技術(shù)規(guī)格-根據(jù)粘度(分子量)分類
| No | 工業(yè)級 | 化妝品級 | 粘度/mPa.s(濃度) |
| 1 | SP200 | 80-170(5%) | |
| 2 | SP400 | SE400 | 80-130(2%) |
| 3 | SP500 | 300-400(2%) | |
| 4 | SE550 | 1000-2000(2%) | |
| 5 | SP600 | SE600 | 4800-6000(2%) |
| 6 | SP850 | SE850 | 2400-3000(1%) |
| 7 | SP900 | SE900 | 4000-5500(1%) |
| 8 | EE820 | 1300-2100(1%) |
*SP,EP-工業(yè)級,一般工業(yè)用途;SE,EE-化妝品級,作為化妝品的原材料
*SP,SE分散改良型;EP,EE常規(guī)溶解型
主要用于食品、化妝品,醫(yī)藥、紡織、造紙、電解銅箔,三元催化劑,研磨材料,建筑材料,涂料油墨,半導體加工等領域
